5立方制氮設備適(shi)用于金(jin)屬熱處理、鋁(lv)業(ye)加工(gong)、粉末冶(ye)金(jin)、石(shi)油化工(gong)、合成織維、醫藥(yao)化工(gong),糧食儲藏等行業(ye)。
更新時間:2024-06-2050立方制氮設(she)備(bei)適用(yong)于粉末冶金,油(you)田,煤礦,食品包裝(zhuang),電子,鋰電池(chi)等行業
更(geng)新時間:2024-06-2060立方制氮設(she)備適用(yong)于電子,化(hua)纖,塑料,油田,煤礦,金(jin)屬(shu)冶煉,鋁業(ye)等行業(ye)。
更新時間(jian):2024-06-20100立方制氮設備是(shi)一(yi)種*的(de)氣(qi)體分離技術,它在(zai)當今世界的(de)現場供氣(qi)方面具有(you)不可替代的(de)地位(wei)。 在(zai)吸(xi)附(fu)(fu)(fu)(fu)平(ping)衡情況下,任(ren)何一(yi)種吸(xi)附(fu)(fu)(fu)(fu)劑在(zai)吸(xi)附(fu)(fu)(fu)(fu)同一(yi)氣(qi)體時,氣(qi)體壓力越高,則(ze)吸(xi)附(fu)(fu)(fu)(fu)劑的(de)吸(xi)附(fu)(fu)(fu)(fu)量越大(da)。反之(zhi),壓力越低,則(ze)吸(xi)附(fu)(fu)(fu)(fu)量越小。
更新時間:2024-06-20吹(chui)掃用(yong)制氮(dan)機(ji)在(zai)壓(ya)力(li)升高時,碳分子篩(shai)吸(xi)附氧(yang)(yang)產生(sheng)(sheng)氮(dan)氣(qi),在(zai)壓(ya)力(li)降低時,碳分子篩(shai)開(kai)始脫附氧(yang)(yang)氣(qi),在(zai)壓(ya)力(li)降至(zhi)常壓(ya)時,碳分子篩(shai)*脫附氧(yang)(yang)氣(qi)再生(sheng)(sheng)。變壓(ya)吸(xi)附制氮(dan)設備通(tong)常有兩(liang)只(zhi)吸(xi)附塔(ta),通(tong)過可編程序控制器(PLC)控制氣(qi)動閥的(de)開(kai)閉,因此實現兩(liang)塔(ta)可以交替循(xun)環,一只(zhi)塔(ta)吸(xi)氧(yang)(yang)產氮(dan),另一只(zhi)塔(ta)脫氧(yang)(yang)再生(sheng)(sheng),如(ru)此不斷產出所需純度的(de)氮(dan)氣(qi)。
更新(xin)時(shi)間(jian):2024-06-20150立方制氮設備是一(yi)種(zhong)*的氣(qi)(qi)體(ti)分離技(ji)術(shu),它(ta)在當今(jin)世界的現(xian)場供氣(qi)(qi)方面具有不可(ke)替(ti)代(dai)的地位。 在吸(xi)附(fu)(fu)平衡情況下,任何一(yi)種(zhong)吸(xi)附(fu)(fu)劑在吸(xi)附(fu)(fu)同一(yi)氣(qi)(qi)體(ti)時,氣(qi)(qi)體(ti)壓(ya)力(li)越(yue)高(gao),則吸(xi)附(fu)(fu)劑的吸(xi)附(fu)(fu)量(liang)越(yue)大。反之,壓(ya)力(li)越(yue)低,則吸(xi)附(fu)(fu)量(liang)越(yue)小。
更新時間:2024-06-20120立(li)方制(zhi)氮(dan)設(she)備是(shi)一種*的氣(qi)體分離技(ji)術,它在當今世界的現場供氣(qi)方面具有不可替代的地(di)位。 在吸(xi)附(fu)(fu)平衡情況下,任何(he)一種吸(xi)附(fu)(fu)劑在吸(xi)附(fu)(fu)同一氣(qi)體時,氣(qi)體壓力(li)越(yue)高,則(ze)吸(xi)附(fu)(fu)劑的吸(xi)附(fu)(fu)量越(yue)大。反之(zhi),壓力(li)越(yue)低,則(ze)吸(xi)附(fu)(fu)量越(yue)小。
更新時間(jian):2024-06-20高純度(du)制(zhi)(zhi)氮設備(bei)主機部分:吸附(fu)塔、PLC控制(zhi)(zhi)器(qi)、氮氣(qi)(qi)粉塵過濾器(qi)、氮氣(qi)(qi)儲(chu)罐,以壓縮空氣(qi)(qi)作(zuo)為原料和動(dong)力,通過變(bian)壓吸附(fu)制(zhi)(zhi)取純度(du)為95%~99.9995%的氮氣(qi)(qi),適用于(yu)金屬熱處(chu)理,鋁行業,電子行業,磁(ci)材料等行業。
更(geng)新(xin)時間:2024-06-20